拉普拉斯(西安)科技获得反响炉专利进步待加工资料镀膜质量
发布日期: 2025-02-11 09:55:27 来源: 配送
(西安)科技有限责任公司获得一项名为“反响炉”的专利,授权公告号 CN 222182433 U,请求日期为2024年4月。
专利摘要显现,本揭露触及半导体或光伏资料加工技术领域,详细触及一种反响炉,处理了传统的加工设备中,工艺进气孔较为会集,易发生彼此搅扰,导致腔体内的气场散布不均匀的问题。本揭露的施行例供给的一种反响炉,其进气气路之间的出气口的距离大于100mm,可以有很大成效防止不同进气气路的出气口供给的气体彼此搅扰,有用提升了反响腔内气场的均匀性,有利于进步待加工资料上镀膜的质量。